期刊检索

  • 2024年第32卷
  • 2023年第31卷
  • 2022年第30卷
  • 2021年第29卷
  • 2020年第28卷
  • 2019年第27卷
  • 2018年第26卷
  • 2017年第25卷
  • 2016年第24卷
  • 2015年第23卷
  • 2014年第22卷
  • 2013年第21卷
  • 2012年第20卷
  • 2011年第19卷
  • 2010年第18卷
  • 第1期
  • 第2期

主管单位 中华人民共和国
工业和信息化部
主办单位 中国材料研究学会
哈尔滨工业大学
主编 苑世剑 国际刊号ISSN 1005-0299 国内刊号CN 23-1345/TB

期刊网站二维码
微信公众号二维码
引用本文:辛艳青,孙珲,郑小龙,魏丛丛,吕英波,宋淑梅.GZO厚度对非晶硅电池中复合背电极的影响[J].材料科学与工艺,2019,27(5):73-77.DOI:10.11951/j.issn.1005-0299.20180135.
XIN Yanqing,SUN Hui,ZHENG Xiaolong,WEI Congcong,LÜ Yingbo,SONG Shumei.Impact of GZO thickness on the performance of multilayer back reflectors employed in a-Si solar cells[J].Materials Science and Technology,2019,27(5):73-77.DOI:10.11951/j.issn.1005-0299.20180135.
【打印本页】   【HTML】   【下载PDF全文】   查看/发表评论  下载PDF阅读器  关闭
←前一篇|后一篇→ 过刊浏览    高级检索
本文已被:浏览 882次   下载 535 本文二维码信息
码上扫一扫!
分享到: 微信 更多
GZO厚度对非晶硅电池中复合背电极的影响
辛艳青,孙珲,郑小龙,魏丛丛,吕英波,宋淑梅
(山东大学 空间科学与物理学院,山东 威海 264209)
摘要:
在非晶硅太阳能电池中加入复合背电极是提高非晶硅太阳能电池光电转换效率和稳定性的有效手段.本文利用磁控溅射技术在非晶硅薄膜太阳能电池上制备了ZnO :Ga(GZO)/Al复合背电极,研究了GZO厚度对GZO薄膜光电性质及非晶硅电池中GZO/Al复合背电极性能的影响.研究表明:随着GZO层厚度的增加,GZO薄膜的光电性质均表现出较高水平,适合制备GZO/Al复合背电极;相较于单层Al背电极的非晶硅太阳能电池,具有GZO/Al复合背电极的太阳能电池性能大幅提高.当GZO层厚度为100 nm时,太阳能电池的短路电流(ISC)、开路电压(VOC)和填充因子(FF)分别达到8.66 mA,1.62 V和54.7%.
关键词:  复合背电极  非晶硅太阳能电池  ZnO ∶Ga  磁控溅射  填充因子
DOI:10.11951/j.issn.1005-0299.20180135
分类号:TB34
文献标识码:A
基金项目:山东省自然科学基金资助项目(ZR2018QEM002);山东大学(威海)青年学者未来计划资助项目.
Impact of GZO thickness on the performance of multilayer back reflectors employed in a-Si solar cells
XIN Yanqing, SUN Hui, ZHENG Xiaolong, WEI Congcong, Lü Yingbo, SONG Shumei
(School of Space Science and Physics, Shandong University, Weihai 264209, China)
Abstract:
Amorphous silicon thin film solar cell has attracted increasing attention because of its high absorption coefficient in visible light regions, low defect density after hydrogenation, simple preparation process, high open circuit voltage, good radiation resistance, and good substrate adaptation. However, with respect to the monocrystalline silicon solar cells, the photoelectric conversion efficiency of amorphous silicon solar cells is not ideal. The addition of multilayer back reflectors to amorphous silicon solar cells is an effective method to improve the conversion efficiency and the stability of the solar cells. In this work, GZO (ZnO :Ga)/Al back reflectors were prepared by magnetron sputtering on a-Si thin film solar cells. The influence of GZO layer thickness on the optoelectronic properties of GZO film and the performance of amorphous silicon solar cells with GZO/Al back reflector were investigated. Results show that with the increase of the GZO thickness, the electrical and optical properties of GZO films presented satisfactory performance, suggesting that they are suitable for preparing GZO/Al multilayer back reflectors. Compared with the solar cell with single Al reflector, the performance of the solar cell with GZO/Al back reflector significantly improved.Notably, when the thickness of GZO layer was 100 nm, the short-circuit current (ISC), open circuit voltage (VOC), and fill factor (FF) reached 8.66 mA, 1.62 V, and 54.7%, respectively.
Key words:  multilayer back reflector  a-Si solar cells  ZnO:Ga  magnetron sputtering  fill factor

友情链接LINKS